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卓以和，1937年生于北京，电机工程学家，美国朗讯科技公司（AT&T公司）贝尔实验室半导体研究室主任、半导体研究所所长、教授。1955年卓以和赴美留学；1960年从美国伊利诺斯大学毕业；1961年获伊利诺伊大学硕士学位；1968年获伊利诺伊大学博士学位；1985年获选为美国科学院院士；1996年当选为中国科学院外籍院士。卓以和主要从事分子束外延、人工微结构材料生长和在新型器件研究领域的研究。